Druckindustrie

Das APDA-371 misst und bestimmt den Gehalt an Feinstaubpartikeln in der Luft unter Anwendung der industriell bewährten Beta-Strahl-Dämpfungstechnik (in mg oder µg/m3)

Unser Messgerät APHA-370 ist ein kontinuierlich arbeitender Analysator zur Bestimmung von THC , CH4 und non-CH4 in der Umgebungsluft. Weitere Applikationen bestehen in verschiedenen Bereichen der Prozess- und Spurenanalytik.

Unser eignungsgeprüftes Messgerät APMA-370 ist ein kontinuierlich arbeitender Analysator zur Bestimmung von CO in der Umgebungsluft. Weitere Applikationen bestehen in verschiedenen Bereichen der Prozeß- und Spurenanalytik.

The CS-137 offers reliable, unobtrusive round the clock, real-time monitoring of BHF solution concentrations primarily used for wet etching in semiconductor processes.

Support for multi-batu, single-bath, and dingle-wafer cleaning systems

24-hour real-time monitoring of FPM solution concentrations in semiconductor wet-etching processes

High throughput compact rugged spectrograph, suitable for dedicated Raman analysis and portable applications. Available rack mounted for industrial settings.

24-hour real-time monitoring of HF/HNO3 solution concentrations in semiconductor wet-etching processes

Ideal for hydrofluoric acid monitoring in semiconductor manufacturing

Messungen von Lichtreflektionen mit Hilfe des IG-331 ermöglichen Aussagen über Politur- und Reinheitszustände von Oberflächen.