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グラフェンなど次世代半導体材料の研究・開発では、最先端の分析技術が必要です。ラマン分光分析による応力・結晶性評価、フォトルミネッセンス測定による不純物分布測定、蛍光寿命分析によるキャリア寿命評価、さらにカソードルミネッセンス測定による微小部の欠陥分析例などを紹介します。

Application

アプリケーション

R&D

結晶欠陥 / キャリア寿命 / 不純物 / 応用評価

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カソードルミネッセンス装置

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AFMラマン装置
XploRA Nano

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顕微ラマン分光装置
LabRAM HR Evolution

関連カタログ

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蛍光寿命測定装置
DeltaFlex

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［HORIBAグループ全社休業のお知らせ］

誠に勝手ながら、2022年11月3日（木・祝）～11月6日（日）はHORIBAグループの全社休業日となります。この間にいただいたお問い合わせにつきましては、11月7日（月）より順次対応いたします。ご不便をお掛けしますが、ご理解、ご了承いただけますようお願いいたします。

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