半導体

堀場エステックの半導体プロセス関連の製品群はマスフローコントローラだけにとどまらず、プロセスチャンバ周辺で使用される流量、圧力、濃度、プラズマ等の測定、制御に用いられています。これらは、コンポーネントだけでなく、お客様にソリューションを提供するべく、モジュールやサブシステムでもご提案することができます。

半導体製造プロセスチャンバにおける計測・制御技術

 

プロセスのスループット向上に貢献するアプリケーション

クリーニングプロセスの終点検知

IR-400 Series

ガスモニタ
IR-400 Series

●セル温調機能搭載
 最大180℃
●マルチガス対応
 SiF4CF4/WF6NF3
●ドライクリーニング終点検知の最適化
●クリーニングガス・時間削減
●チャンバダメージ低減による部品の長寿命化

TungstenCVD装置チャンバクリーニング終点検知の例

プラズマ状態の分析・プロセス管理

EV-140C Series

プラズマ発光モニタ
EV-140 Series

●プラズマエッチングの終点検知
●プラズマ状態の管理
●プロセス条件の最適化

成膜プロセスのリアルタイムモニタリング

窒化膜成膜プロセスにおける膜質管理の例

チャンバ内のプラズマコンディションをリアルタイムでモニタリング

●お困りごとはありませんか?

 ◆濃度計測方法とは