マスク生産プロセス
（クリックするとイメージが拡大されます）
リソグラフィープロセス
（クリックするとイメージが拡大されます）
半導体製造プロセスにおける異物検出
レティクル/マスク異物検査装置 PD Xpadion
PD Xpadion
PD Xpadionは、光学／ステージ設計、さらに基幹ソフトウェアを含む全てのプラットフォームを一新。
高い稼働率と長期安定性はそのままに、操作性を大幅に向上しました。信頼性の高い光学系による「スキャン」、新規機能を加えた「レビュー」、革新的なセンサーとの組合せによる「アナライシス」といったオートメーションへの拡張機能を強化し Smart Factory対応を実現します。
特長
- 光学系の組合せによる検出感度の変更
- OHT、EFEM、マルチポート、マルチスロット対応
- 検査データを再解析し検査レシピをスピーディに最適化
- HORIBAが有する各種センサーとの連携も可能（ラマン分光、エリプソメトリー等）
レティクル/マスク異物検査装置 PR-PD3 Pro
PR-PD3 Pro
幅広い種類のマスクやレティクルの異物検査が可能です。簡単な操作でパターン/ガラス/ペリクルの各面を高スループットで測定。複数倍率の顕微鏡を内蔵しているため測定後に異物観察と画像データ保存も可能です。オプションとして、検出異物のオートフォーカス、オートキャプチャー、及びオートサイジング機能を備えることができ、データ管理機能も充実。コンパクトな装置設計で設置スペースの削減にも貢献します。
特長：
複数面検査
3面を約15分以内に検査*
パターン面 0.5 μm
ガラス面 5.0 μm
ペリクル面 5.0 μm または10.0 μm
* 100x100㎜エリア、Load/Unloadは含まない
サンプルケース対応
SMIF POD
各種ステッパーケース
レティクル/マスク/ウェハ異物除去装置 RP-1
RP-1
レティクル・マスクの各面、又はウェハ表面に付着した異物をCDA 又は N2ブローと真空吸引で自動除去が可能。除去した異物の再付着を防ぎます。
ランニングコストの低減
日常的な異物除去作業により、マスクの洗浄サイクル、ペリクルの交換サイクルを伸ばし、ランニングコスト低減に貢献します。異物検査装置：PD Xpadionと組合わせることで、より効率的なレティクル・ウェハ管理が可能です。
特長：
人為的ペリクル破損の防止
静電破壊防止
マスク洗浄周期を延ばしコスト削減に寄与
ガラス表面の5.0μm粒子を除去したテストデータ
マスク洗浄
薬液濃度モニタ
高速応答でコンパクトな薬液濃度計。使いやすく高度な薬液濃度モニタにより、レチクル/マスク洗浄中のプロセスドリフトを回避します。
マスク洗浄工程での洗浄液濃度をリアルタイムで測定し、プロセスの最適条件を維持・監視することができます。
(クリックするとイメージが拡大されます)
薬液濃度モニタ
CS-100シリーズ
光ファイバ式
薬液濃度モニタ
CS-600F
非接触型
薬液濃度モニタ
CS-900
TMAH濃度モニタ
HE-960H-TM
低濃度HF/HCl/NH3
濃度モニタ
HF-960M
マスクエッチング
エンドポイント検出
独自のアルゴリズムを用いてプラズマ発光を解析し、マスクエッチング工程でのエッチングプロセスの終点を検出します。
- プラズマ発光分析
エンドポイントモニタ
EV-140C
(クリックするとイメージが拡大されます)
324 秒後の終点
Cr/ 石英インターフェイスに到達
- レーザー干渉計
LEM Camera
マスク表面からのレーザー反射光の干渉信号を検知することにより、マスクエッチング工程でのエッチング終点を検出します。
ガス流量管理
マスクエッチング工程でのプロセスガスを制御するために、接ガス部をオールメタル構造にしたマスフローコントローラ。腐食性ガスに対する高い耐久性とデジタル通信制御を実現します。
- デジタルマスフロー
コントローラ
SEC-Z500X
(クリックするとイメージが拡大されます)
マスクストッカー
ガス制御
マスクストッカーのパージラインでのガス制御に最適なマスフローコントローラ。コストパフォーマンスに優れ、デジタル通信制御が可能です。
- マスフロー
コントローラ
SEC-E500
- デジタルマスフロー
コントローラ
SEC-N100
材料分析
ペリクルの厚さ測定
次世代ペリクルの厚さ、均一性の評価に最適です。
- エリプソメータ
UVISEL Plus
異物同定
レチクル・ペリクル上の異物成分を分析。
AFM機能も搭載し、多彩な機能で異物分析をサポートします。
- ラマン顕微鏡
XploRA Nano
