2009年7月31日 - 社外の「分析計測技術」研究者の奨励賞

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2009年7月31日 - 社外の「分析計測技術」研究者の奨励賞

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2009年3月27日 -  「半導体材料表面コンタミネーションの高感度・非破壊計測」

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2009年3月27日 -  「半導体材料表面コンタミネーションの高感度・非破壊計測」

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残留ガス分析計

2009年3月13日 - 堀場エステックは、新製品として太陽電池パネルの生産ライン向けの小型残留ガス分析計を発売いたします。残留ガス分析計は半導体・液晶パネルの生産ラインに用いられる真空チャンバー内に残留している微量の不純物をリアルタイムに計測します。薄膜形成のプロセスを行う前に真空チャンバー内の状態を確認・分析する事により最適な状態でのプロセスが行え、半導体デバイス・液晶パネルの品質向上、生産性向上を目的に使用されています。

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2009年1月19日 - この度かねてより計画しておりました「営業部門の強化施策」の一環により、弊社 筑波営業所を東京営業部 東京営業所へ統合し業務専任担当によるサービスを実施、サポート力の充実を図ります。また弊社 東京営業所はHORIBAグループ各社の北日本地区の中核拠点が集結するビルに所在し分析センターも併設しています。グループの総合力を生かしたユニークな技術・製品を提供し、お客様により一層の満足を頂けるよう努力する所存でございます。

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