プラズマ発光モニタ EV 2.0 Series

概要

半導体製造プロセスでは、成膜やエッチングをはじめとし、多種多様な製造工程で、プラズマ技術が利用されています。
プロセスの終点検知やコンディション管理、プラズマ診断など、各種プラズマチャンバーの研究開発から生産ラインまで、幅広い用途に対応可能なプラズマ発光モニタです。
今回新規に開発された高分解能・ワイドレンジ・小型の3モデルから、用途に合わせて最適な仕様が選択可能です。また、専用の解析ソフトウェアにより、プラズマの微小な信号変化から精密なエンドポイントの検出やプラズマプロセスの異常監視など幅広いニーズに対応可能です。

特長

  • 3モデルから用途に合わせて選択可能
  • プロセスチャンバーのウィンドウへの直付けが可能
  • 高度な専用ソフトウェアにより、研究開発から量産まで幅広く対応
  • 最大6チャンバー(プラズマ発光モニタ 6台)をPC 1台で同時に計測可能

製造会社: HORIBA

仕様

Model

高分解能タイプ
EV2.0 HR

ワイドレンジタイプ
EV2.0 STD

小型タイプ
EV2.0 LR

測定波長範囲

300 - 800 nm

200 - 1050 nm

300 - 900 nm

焦点距離

75 mm

75 mm

20mm

波長分解能

1 nm

2.5 nm

6.5 nm

検出器

裏面入射型CCDイメージセンサ
(素子数 : 2048 x 16)

センサユニット寸法

105 x 135 x 135 mm

105 x 135 x 135 mm

70 x 135 x 125 mm

センサユニット質量

850g

850g

610g

センサユニット電源仕様

DC 24V

DC 24V

DC 24V

アプリケーションソフトウェア

Sigma-P、Recipe Designer2.0

※センサユニット及び、PCには、AC100V電源が付属します。
※光ファイバ、チャンバーアダプタ、マルチチャンネル用PC、その他仕様につきましては、お問合せください。

アプリケーション

  • エッチングエンドポイント検出、プロセス条件の最適化
  • プラズマチャンバー内のコンディションやドリフト監視
  • プラズマを用いた表面改質やクリーニングプロセスの最適化
  • プラズマプロセスの異常監視・原因解析

価格は仕様により異なりますので、別途お見積もりいたします。
「見積・資料・お問い合わせ」よりお申し込みください。尚、製品によりましては代理店をご紹介させていただくことがございます。

見積・資料・お問い合わせ

プラズマ分析:プラズマ発光モニタ EV-140C


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