レティクル/マスク異物検査装置

1998年9月 7日

本装置は露光用レティクルやマスク上の異物を高感度に検出しその位置を高精度に特定し画像に表示する。また、アルゴンによるレーザ散乱方式を採用することにより、最小検出0.35μmの異物を90%以上の検出率で測定できる。各種のマスクケースに対応する多段ソータや各種通信機能を充実させるなどあらゆる半導体製造ラインに即応できる構成となっている。

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