ICP発光分析における基本技術―物理干渉と分光干渉の原因と対応―

製作者：大道寺英弘*

1998年9月 7日

*株式会社堀場製作所

ICP発光分析装置は多くの分野において広く使われている。ICPで測定しようとすると、必ずICP発光分析に共通の干渉の問題がつきまとう。ここでは、物理干渉・分光干渉について述べると共にこれらの内容と干渉の除去方法について述べ、より正確なICP発光分析を行うための指針を提供する。