迅速表面分析が可能!


試料チャンバーの外観
試料チャンバーの外観

約1~10μm/minのArスパッタリングにより、深さ方向元素分析が迅速に行えます。XPS・オージェ・SIMSのような表面分析装置と異なり、高真空チャンバーを用いないため、測定したいときにすぐ測定が行えます。


非導電性材料の表面分析も可能!


高周波方式グロー放電(rf-GD-OES)だから、酸化膜・セラミクス・ガラスといった非導電性材料の深さ方向分析が行えます。


パルススパッタ(特許)により低ダメージ・高分解能測定が可能!


特許であるパルススパッタによる低速スパッタリングが可能になったことで、従来難しかった有機皮膜の分析が可能になり、またサブnmオーダーのより高い深さ方向分解能で分析することが可能になりました。


光学設計の進化により、“N”, “O”などの元素を高感度に検出!


集光レンズ、グレーティング、検出器など、分光器内部の光学設計は進化してきました。それにより、真空紫外領域に発光がある窒素や酸素の高感度検出が可能になりました。


顕微鏡観察用の前処理・エッチング機としても活用可能!


50eVという低ダメージArプラズマは、光学顕微鏡や電子顕微鏡の試料前処理として活用することもできます。


バルク分析(固体材料の定量分析)も可能!


rf-GD-OESはスパーク発光分析(カントバック)の代替として、固体材料の定量分析にも用いることが可能です。