分光エリプソメトリー(Spectroscopic Ellipsometry: SE)は、入射光と反射光の偏光の変化量を波長ごとに計測し、得られた測定データをもとに光学モデルを作成、フィッティング計算をすることにより薄膜の膜厚(d)および光学定数（屈折率 n、消衰係数 k）を非破壊、非接触で求める分析手法です。この分析手法を用いる装置を分光エリプソメーター(Spectroscopic Ellipsometer)といいます。 エリプソメーターは半世紀以上前から、半導体業界や光学コーティングにおいて、主に単層膜の膜厚測定手法として用いられてきました。20世紀終わりからは分光エリプソメーターに入れ替わり、単層の膜厚測定だけでなく、多層構造の膜厚や光学定数、サンプル表面のラフネス、界面の状態などバルクや薄膜に関する多くの情報を得ることが可能になりました。