吸收分光光度学

CS-137高精度化学药液浓度计专为半导体制造时清洗制程中所使用的BHF溶液而设计。实现了过去所没有的高速响应性和小巧化，可用于监测硅氧化膜的蚀刻以及晶片表面的微粒清除作业时所使用的BHF溶液(NH4F/HF/H2O)中的各成分浓度。依据浓度计的输出而进行的反馈控制，可以确保BHF溶液的浓度保持在允许范围内，同时，还可以避免不必要的药液更换工作。

能够监测从低浓度到高浓度范围的臭氧浓度

在线多样监测！！

适用于使用批次式、单槽、单晶圆各方式的清洗装置。

24小时实时监测半导体湿法蚀刻中的FPM药液浓度

24小时实时监测半导体湿法蚀刻中的HF/HNO3药液浓度

用于超纯水的二氧化硅分析，具有小巧且高灵敏度的新性能。

实时显示半导体制造工艺中的氢氟酸浓度

监测半导体制造工艺中清洗、形成氧化膜等作业中所使用的臭氧水浓度。它是直接安装在主配管中、可以进行连续监测的臭氧水浓度监测仪。不需要用旁通管路来进行检测。本产品通过臭氧发生装置以及对使用点进行近似测量。

适合于使用单槽或多槽方式的清洗装置

外形小巧、响应快速的SC-1溶液浓度计

CS-152高精度化学药液浓度计专为半导体制造时清洗制程中所使用的SC-1溶液而设计。实现了过去所没有的高速响应性和小巧化，可用于监测清除金属离子时所使用的SC-2溶液(HCl/H2O2/H2O)中的各成分浓度。依据浓度计的输出而进行的反馈控制，可以确保SC-1溶液的浓度保持在允许范围内，同时，还可以避免不必要的药液更换工作。由于测量周期短，可以精确地跟踪浓度变化，小巧化设易于组装到清洗装置中。