半导体&FPD制造过程控制

低成本电磁阀质量流量计,能适用于从0.2sccm to 500slm的N2以及相同气体的流量控制

基本型号的流量计

MV-2000系列实现高效的汽化，即使在低温情况下也可通过螺旋式加热达到汽化效果。此种汽化方式适用于半导体制造工艺，诸如“High-k”——一种易热解的液体源

通过气液混合气化方式实现了液体材料的高效率气化

提供多气体，多量程的解决方案，是HORIBA销量第一的气体质量流量控制器。高精度，快速响应，轻巧的尺寸。全金属

Endpoint controller for plasma etch cluster tools: Simultaneous Real Time Multi-Chamber - Multi diagnosis monitor

它内置有高速响应的压电阀，接气部采用了全金属构造，最适于超清洁类型的高纯度气体供应系统。

通过金属封口方式实现了超低泄漏

不仅可进行气体的流量控制，而且还可以进行液体的流量控制

超精度检测，可至0.35µm ， 适用于检测Chrome, glass 以及 Pellicle表面

PR-PD2是通过激光散射方式对曝光工艺中光掩模上的细小颗粒进行检测的装置。可检测光掩模图案面(Pattern Surface)上的最小粒径为0.35μm。并且通过线＆空间1.0〜1.5μm的图案识别功能，可以把检测误差抑制在最低限度。

适合于使用单槽或多槽方式的清洗装置

外形小巧、响应快速的SC-1溶液浓度计