2-channel Carbon Sensor Resistivity Meter HE-960RW-GC(W)

HE-960RW-GC可连接两个传感器并可同时进行测量。

一台变换器可同时进行高性能高精度地测量和输出2个不同位置的电阻率。

BHF monitor image

CS-137高精度化学药液浓度计专为半导体制造时清洗制程中所使用的BHF溶液而设计。实现了过去所没有的高速响应性和小巧化,可用于监测硅氧化膜的蚀刻以及晶片表面的微粒清除作业时所使用的BHF溶液(NH4F/HF/H2O)中的各成分浓度。依据浓度计的输出而进行的反馈控制,可以确保BHF溶液的浓度保持在允许范围内,同时,还可以避免不必要的药液更换工作。

碳质探头电阻率计 HE-960R-GC (W)

炭质传感器电阻率计HE-960R-GC(W) — 炭质传感器具有高效的抗药业腐蚀性能,可应用于单槽清洗设备

炭质传感器具有高效的抗药业腐蚀性能,可应用于单槽清洗设备

Dissolved Ozone Monitor OZ-96

能够监测从低浓度到高浓度范围的臭氧浓度

Fiber Optic Type Chemical Concentration Monitor CS-100F1 Series

在线多样监测!!

适用于使用批次式、单槽、单晶圆各方式的清洗装置。

FPM Monitor / CS-153

24小时实时监测半导体湿法蚀刻中的FPM药液浓度

HE Raman Process Analyzer

高效率过程专用拉曼分析仪,坚固耐用,稳定可靠,适用于拉曼监测。

CS-153N HF/HNO3 Monitor

24小时实时监测半导体湿法蚀刻中的HF/HNO3药液浓度

Hydrofluoric Acid Monitor CM-200A/210A

实时显示半导体制造工艺中的氢氟酸浓度

In-line type Dissolved Ozone Monitor OZ-96i

监测半导体制造工艺中清洗、形成氧化膜等作业中所使用的臭氧水浓度。它是直接安装在主配管中、可以进行连续监测的臭氧水浓度监测仪。不需要用旁通管路来进行检测。本产品通过臭氧发生装置以及对使用点进行近似测量。