电力&电子机械、仪器

炭质传感器电阻率计HE-960R-GC(W) — 炭质传感器具有高效的抗药业腐蚀性能，可应用于单槽清洗设备

炭质传感器具有高效的抗药业腐蚀性能，可应用于单槽清洗设备

外形小巧、运营成本低、应用范围广

HORIBA的PD系列产品运转效率高，具有长期稳定性，受到众多半导体制造工厂的高度评价。继承了各个结构简单、长期稳定运转的搬运系统，高通过量、可靠性高的光学系统，以及具有防误测功能等高性能设备并巧妙组合成一个整体的产品就是PR-PD3。和以往的机型(PR-PD2)相比，它的外形尺寸小了约1/2，追求低运营成本。检测灵敏度达到0.5μm，具有广泛通用性。诞生了可以用来满足光掩模(reticle/mask)上异物检测这一广泛需求的简便装置。

Integrated management with an in-situ real time monitor "DIGI Series" for next-generation thin-film processes

UR系列产品为使用高精度压力传感器及高效，响应迅速压电陶瓷阀的数字式调节器

HORIBA EMGA-600W 是一款将氧/氮分析仪和定氢仪结合起来的分析仪器。它利用惰性气体熔融法测定钢铁、有色金属、半导体、电子等材料中的氧、氮、氢元素的含量。

EMGA-920是一款精度高，重复性极高的氧/氮元素分析仪。适用于尖端技术的研发、钢铁材料的质量控制、新材料、催化剂等制造领域。这是一款新时代最优化的产品，可以满足绝大部分用户的要求。

ENDA-C2000氨逃逸分析系统可以对氨干式脱硝装置排放出来的尾气中的残留NH3浓度进行连续监测。采用了交替流动调制型化学发光法(CLA)分析仪，无零点漂移。由于使用了半导体传感器，工作寿命长。分析部和操作部的功能集中统一，通过完善自我诊断功能，可监测脱硝催化剂的劣化、限制NH3的注入量、防止硫酸铵结晶物的生成等。

在线多样监测！！

适用于使用批次式、单槽、单晶圆各方式的清洗装置。

24小时实时监测半导体湿法蚀刻中的FPM药液浓度

实现对高纯度气体连续监测，主要应用于空分和半导体行业。实现对高纯度气体中的痕量杂质气体 (CO, CO2 和 CH4) 的超高感度连续测量。