UVISEL NIR

概要

它采用了自动控制(光栅、狭缝、探测器)的高分辨率单色仪来进行全谱的连续测量。可见波段采用光电倍增管探测器,而近红外波段采用InGaAs光电二极管。

光谱型椭偏仪的光谱范围非常重要,因为它决定了仪器的应用范围.

  • 长波长给在可见波段系数光的全部材料提供了一个厚度测量的透明窗口。
  • 大厚度薄膜的测量分析更加准确

UVISEL NIR主要为半导体、光学镀膜、光电子和通信应用而专门设计。


制造: HORIBA Scientific

規格

  • 在近红外-可见波段内测量分析以下薄膜和多层膜的厚度和光学常数 :

    - 介质
    - 半导体
    - 导电氧化物
    - 化合物
    - 金属薄膜
    - 玻璃

  • 化合物组分分析
  • 硅材料结晶度的测量分析
  • 特殊波段的近红外应用(1550,1330,.nm)
  • 可测膜厚达40微米的薄膜样品
  • 材料属性:渐变、各向异性、多孔层