半导体

GD-Profiler 2™提供了快速、同时分析所有感兴趣的元素，包括氮、氧、氢和氯。是薄膜描述和工艺研究的理想工具。

监测半导体制造工艺中清洗、形成氧化膜等作业中所使用的臭氧水浓度。它是直接安装在主配管中、可以进行连续监测的臭氧水浓度监测仪。不需要用旁通管路来进行检测。本产品通过臭氧发生装置以及对使用点进行近似测量。

LB-550采用了动态光散射技术，能够测量非常高浓度的悬浮液，高达40%固容量的浓度范围，1nm-6um的测量范围。

CS-137高精度化学药液浓度计专为半导体制造时清洗制程中所使用的BHF溶液而设计。实现了过去所没有的高速响应性和小巧化，可用于监测硅氧化膜的蚀刻以及晶片表面的微粒清除作业时所使用的BHF溶液(NH4F/HF/H2O)中的各成分浓度。依据浓度计的输出而进行的反馈控制，可以确保BHF溶液的浓度保持在允许范围内，同时，还可以避免不必要的药液更换工作。

超精度检测，可至0.35µm ， 适用于检测Chrome, glass 以及 Pellicle表面

实用，低操作成本及广泛的应用性，适用于 glass, chrome and pellicle各表面的检测

基本型号的流量计

工业用pH计 HP-480是标准型pH计，它具备使用频率高的功能。 可以适用于工业废水的排放水监测以及各种工业领域中制造工艺的监控、质量检查、水产、养殖等广泛的用途。

用于超纯水的二氧化硅分析，具有小巧且高灵敏度的新性能。

外形小巧、运营成本低、应用范围广

HORIBA的PD系列产品运转效率高，具有长期稳定性，受到众多半导体制造工厂的高度评价。继承了各个结构简单、长期稳定运转的搬运系统，高通过量、可靠性高的光学系统，以及具有防误测功能等高性能设备并巧妙组合成一个整体的产品就是PR-PD3。和以往的机型(PR-PD2)相比，它的外形尺寸小了约1/2，追求低运营成本。检测灵敏度达到0.5μm，具有广泛通用性。诞生了可以用来满足光掩模(reticle/mask)上异物检测这一广泛需求的简便装置。