半导体

PR-PD2是通过激光散射方式对曝光工艺中光掩模上的细小颗粒进行检测的装置。可检测光掩模图案面(Pattern Surface)上的最小粒径为0.35μm。并且通过线＆空间1.0〜1.5μm的图案识别功能，可以把检测误差抑制在最低限度。

通过气液混合气化方式实现了液体材料的高效率气化

MV-2000系列实现高效的汽化，即使在低温情况下也可通过螺旋式加热达到汽化效果。此种汽化方式适用于半导体制造工艺，诸如“High-k”——一种易热解的液体源

在线多样监测！！

适用于使用批次式、单槽、单晶圆各方式的清洗装置。

高精密测量出低浓度氢氟酸,盐酸和氨气

搭载冷却检测方式的质量流量传感器

适用于相关范围的液体源的稳定加热系统

LU系列产品可自动输送化学药液至加热系统或液体喷射系统。安全，高效，保证液体源供应不间断。

它内置有高速响应的压电阀，接气部采用了全金属构造，最适于超清洁类型的高纯度气体供应系统。

通过金属封口方式实现了超低泄漏

不仅可进行气体的流量控制，而且还可以进行液体的流量控制

由于是无载体类型，所以可以构筑小型气化系统

由于通过质量流量来测定发生量，所以可以不必受到温度・压力的影响进行液体材料的气化供给。