Lithography

在线多样监测！！

适用于使用批次式、单槽、单晶圆各方式的清洗装置。

PR-PD2是通过激光散射方式对曝光工艺中光掩模上的细小颗粒进行检测的装置。可检测光掩模图案面(Pattern Surface)上的最小粒径为0.35μm。并且通过线＆空间1.0〜1.5μm的图案识别功能，可以把检测误差抑制在最低限度。

外形小巧、运营成本低、应用范围广

HORIBA的PD系列产品运转效率高，具有长期稳定性，受到众多半导体制造工厂的高度评价。继承了各个结构简单、长期稳定运转的搬运系统，高通过量、可靠性高的光学系统，以及具有防误测功能等高性能设备并巧妙组合成一个整体的产品就是PR-PD3。和以往的机型(PR-PD2)相比，它的外形尺寸小了约1/2，追求低运营成本。检测灵敏度达到0.5μm，具有广泛通用性。诞生了可以用来满足光掩模(reticle/mask)上异物检测这一广泛需求的简便装置。

实用，低操作成本及广泛的应用性，适用于 glass, chrome and pellicle各表面的检测

超精度检测，可至0.35µm ， 适用于检测Chrome, glass 以及 Pellicle表面

CS-137高精度化学药液浓度计专为半导体制造时清洗制程中所使用的BHF溶液而设计。实现了过去所没有的高速响应性和小巧化，可用于监测硅氧化膜的蚀刻以及晶片表面的微粒清除作业时所使用的BHF溶液(NH4F/HF/H2O)中的各成分浓度。依据浓度计的输出而进行的反馈控制，可以确保BHF溶液的浓度保持在允许范围内，同时，还可以避免不必要的药液更换工作。

产品:

UVISEL VIS: 210-880 nm

UVISEL FUV: 190-880 nm

UVISEL NIR: 245-2100 nm

UVISEL ER: 190-2100 nm

UVISEL VUV: 142-880 nm

测量薄膜厚度和光学常数。用于研究和工艺发展.

高速响应、小型化的化学药液浓度计,TMAH/H2O2药液浓度计是单晶圆和批次式清洗设备的理想之选

CS-150是半导体制造中清洗工艺的SPM溶液用于高精度药液浓度的监测仪，实现了过去所没有的高速响应性和小巧化。可以实时检测金属离子以及有机物的清除作业中所使用的SPM溶液(H2SO4/H2O2/H2O)各成分浓度，通过报警信号通知自动补给的时间。由于实现了高速响应性和短的检测周期，可以忠实地跟踪浓度变化，并且，由于小巧化设计，可以更容易组装到清洗装置中。

CS-152高精度化学药液浓度计专为半导体制造时清洗制程中所使用的SC-1溶液而设计。实现了过去所没有的高速响应性和小巧化，可用于监测清除金属离子时所使用的SC-2溶液(HCl/H2O2/H2O)中的各成分浓度。依据浓度计的输出而进行的反馈控制，可以确保SC-1溶液的浓度保持在允许范围内，同时，还可以避免不必要的药液更换工作。由于测量周期短，可以精确地跟踪浓度变化，小巧化设易于组装到清洗装置中。