Industry

UVISEL FUV

概要

UVISEL FUV光谱型椭偏仪将UVISEL VIS的工作波段扩展到190nm。

UVISEL FUV先进的光学设计使得系统具备高通光量和极低杂散光的特点。UVISEL FUV光谱型椭偏仪被验证在远紫外波段能够提供准确的测量和最好的信噪比，甚至是低反射率的样品。

UVISEL FUV是以下应用的理想工具:

  • 半导体
  • 光刻技术
  • 数据存储
  • 化学和生物工程设计
  • 显示器件

制造: HORIBA Scientific

規格

  • 可见－深紫外范围内薄膜和多层膜结构的厚度和光学常数的分析测试:
    - 绝缘体
    - 高消光系数、低消光系数材料
    - 聚合物、有机材料
    - 光掩膜
    - 塑料
    - 非晶半导体
    - 金属薄膜
    - 玻璃

  • 超薄薄膜、低对比度折射率、渐变折射率和各向异性复杂薄膜的高灵敏度测量