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高精密测量出低浓度氢氟酸,盐酸和氨气

在线多样监测！！

适用于使用批次式、单槽、单晶圆各方式的清洗装置。

用于超纯水的二氧化硅分析，具有小巧且高灵敏度的新性能。

工业用pH计 HP-480是标准型pH计，它具备使用频率高的功能。 可以适用于工业废水的排放水监测以及各种工业领域中制造工艺的监控、质量检查、水产、养殖等广泛的用途。

CS-137高精度化学药液浓度计专为半导体制造时清洗制程中所使用的BHF溶液而设计。实现了过去所没有的高速响应性和小巧化，可用于监测硅氧化膜的蚀刻以及晶片表面的微粒清除作业时所使用的BHF溶液(NH4F/HF/H2O)中的各成分浓度。依据浓度计的输出而进行的反馈控制，可以确保BHF溶液的浓度保持在允许范围内，同时，还可以避免不必要的药液更换工作。

监测半导体制造工艺中清洗、形成氧化膜等作业中所使用的臭氧水浓度。它是直接安装在主配管中、可以进行连续监测的臭氧水浓度监测仪。不需要用旁通管路来进行检测。本产品通过臭氧发生装置以及对使用点进行近似测量。

能够监测从低浓度到高浓度范围的臭氧浓度

高速响应、小型化的化学药液浓度计,TMAH/H2O2药液浓度计是单晶圆和批次式清洗设备的理想之选

CS-150是半导体制造中清洗工艺的SPM溶液用于高精度药液浓度的监测仪，实现了过去所没有的高速响应性和小巧化。可以实时检测金属离子以及有机物的清除作业中所使用的SPM溶液(H2SO4/H2O2/H2O)各成分浓度，通过报警信号通知自动补给的时间。由于实现了高速响应性和短的检测周期，可以忠实地跟踪浓度变化，并且，由于小巧化设计，可以更容易组装到清洗装置中。

CS-152高精度化学药液浓度计专为半导体制造时清洗制程中所使用的SC-1溶液而设计。实现了过去所没有的高速响应性和小巧化，可用于监测清除金属离子时所使用的SC-2溶液(HCl/H2O2/H2O)中的各成分浓度。依据浓度计的输出而进行的反馈控制，可以确保SC-1溶液的浓度保持在允许范围内，同时，还可以避免不必要的药液更换工作。由于测量周期短，可以精确地跟踪浓度变化，小巧化设易于组装到清洗装置中。