ENDA-5000 Series Stack Gas Analysis System

The ENDA-5000 series are superior continuous analysis systems that are perfect in the difficult field of exhaust gas measurement and can monitor up to five components, thanks to HORIBA's innovative optical technology.

Fiber Optic Type Chemical Concentration Monitor CS-100F1 Series

Support for multi-batu, single-bath, and dingle-wafer cleaning systems

FPM Monitor / CS-153

24-hour real-time monitoring of FPM solution concentrations in semiconductor wet-etching processes

GA-370 Trace Gas Monitor

GA-370 : Continuous and ultrahigh-sensitivity measurement of trace impurities (CO, CO2and CH4) in high-purity gas.

 

IPA Concentration Monitor IR-150AS

The IR-150 is designed for real time inline concentration measurement using a Non-dispersive infrared (NDIR) method

Gemini 180 Monochromator

The Gemini 180 is a fully automated, double additive grating scanning monochromator. The incorporation of toroidal optics provides for optimum throughput and spectral resolution. It is ideal for applications that require low stray light and illumination including Transmission, Absorbance, Reflectance, and Fluorescence.

H-20 Monochromator

The use of a concave aberration corrected holographic grating simplifies the optical configuration of the H-20 monochromator in comparison to conventional monochromators.

HandScan ist ein Handsteuergerät, mit dem Sie die Wellenlängen des Monochromators einstellen oder abtasten, die Verschlüsse öffnen und schließen, die motorgesteuerten Spalte bedienen, die motorgesteuerte Drehachse des Gitters drehen und die motorgesteuerten Spiegel aus einer Entfernung von bis zu 3 Metern einstellen können.

HE Raman Process Analyzer

Kompaktes, stabiles Spektrometer für sehr hohen Durchsatz, geeignet für Raman-Analysen bei Applikationen, die ein tragbares Gerät erfordern. Für Anwendungen im industriellen Umfeld ist ein Gehäuse verfügbar, dass das Gerät vor schädlichen Einflüssen schützt.

CS-153N HF/HNO3 Monitor

24-hour real-time monitoring of HF/HNO3 solution concentrations in semiconductor wet-etching processes