FPD-Prozess
HORIBA fördert diverse Analyse-, Steuerungs- und Auswertungstechnologien für die Silizium-Halbleiterherstellung – ein Feld, in dem strenge Vorgaben erfüllt werden müssen.
HORIBA nutzt diese Technologien im Bereich der FPD-Bearbeitung im vollen Maß. Diese Technologien unterstützen die Herstellung für verschiedene Arten von Prozessen wie die Zusammensetzung von Gasen und flüssigen Medikamenten, die Erkennung von Partikeln auf Masken und die Dünnschichtmessung. Diese Technologien werden auch auf hochleistungsfähige Analyse- und Steuerungsgeräte angewendet, die die Forschung und Entwicklung von PDP, organischen EL, FED und das sich weiter auffächernde und entwickelnde Gebiet der FPD unterstützen.
Verwandte Produkte
Unten sehen Sie die verschiedenen Phasen des FPD-Herstellungsprozesses. Bitte klicken Sie auf die einzelnen Phasen, um die Produkte zu sehen, die dafür jeweils erhältlich sind.
Measure the ultra-low density of silica at the finest sensitivity of 0.01 µg/L (0.01 ppb).
Der GD-PROFILER 2 ist ein simultan messendes Glimmentladungsspektrometer mit einem 0,5 m Polychromator, der mit bis zu 47 Kanälen ausgerüstet werden kann. Er kann optional mit einem leistungsstarken 0,64 Meter Monochromator, der die Auswahl beliebiger weiterer Analysenlinien bietet, zur sequenziell-simultan arbeitenden Kombination (SEQ-SIM) ausgebaut werden.
Analytisches Raman Mikroskop mit hoher spektraler Auflösung für herausragende Ergebnisse und einzigartige Flexibilität; vollständig automatisiertes System mit vielfältigem Zubehör für unterschiedliche Applikationen
Einzelpunktanalyse und automatisiertes hyperspektrales Imaging
zwei verschiedene Vakuum-Optionen
Analysenspot-Durchmesser von 1,2mm bis zu einmaligen 10µm
Weiterleitung zu den Konzentrationsmonitoren für Chemikalien
In-line compact vapor concentration monitor, enables MOCVD precursor delivery to be stable.
Compact process gas monitor using quadrupole mass spectrometer. Monitors trace gases, responds quickly to process shift . Easy to install and maintain.
Emission analysis type end-point monitor intended for end-point detection or plasma condition control in the plasma-based semiconductor thin-film process.
Die ultimative Lösung für alle Herausforderungen der Dünnschichtmessung
The LA-960V2 uses Mie Scattering (laser diffraction) to measure particle size of suspensions or dry powders. The speed and ease-of-use of this technique makes it the popular choice for most applications.