Dünnschichtsilizium
Herstellungsprozess für Dünnschichtsilizium und Produkte von HORIBA, die diesen Prozess unterstützen.
Verwandte Produkte
Unten sehen Sie die verschiedenen Phasen des Herstellungsprozesses für Dünnschichtsilizium. Bitte klicken Sie auf die einzelnen Phasen, um die Produkte zu sehen, die dafür jeweils erhältlich sind.
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Der GD-PROFILER 2 ist ein simultan messendes Glimmentladungsspektrometer mit einem 0,5 m Polychromator, der mit bis zu 47 Kanälen ausgerüstet werden kann. Er kann optional mit einem leistungsstarken 0,64 Meter Monochromator, der die Auswahl beliebiger weiterer Analysenlinien bietet, zur sequenziell-simultan arbeitenden Kombination (SEQ-SIM) ausgebaut werden.
Analytisches Raman Mikroskop mit hoher spektraler Auflösung für herausragende Ergebnisse und einzigartige Flexibilität; vollständig automatisiertes System mit vielfältigem Zubehör für unterschiedliche Applikationen
Einzelpunktanalyse und automatisiertes hyperspektrales Imaging
zwei verschiedene Vakuum-Optionen
Analysenspot-Durchmesser von 1,2mm bis zu einmaligen 10µm
Compact process gas monitor using quadrupole mass spectrometer. Monitors trace gases, responds quickly to process shift . Easy to install and maintain.
HORIBA's Award Winning Fluid Delivery System (FDM Series) has revolutionised the POCl3 diffusion process by developing a system to automatically deliver bulk liquid POCl3. This Auto Refill System achieves higher uptime, cost reduction, improved process stability and higher safety.
Vaporize liquid source stably by the gas-liquid mixture vaporization method. Can be used for low temperature and large flow production.
Automatic liquid refill system delivers chemicals directly to baking or direct liquid injection systems. Safe, efficient, and continuous supply of liquid sources.
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In-line compact vapor concentration monitor, enables MOCVD precursor delivery to be stable.
Stellen Sie Ihre Probe visuell dar und messen Sie dünne Schichten und optische Konstanten in wenigen Sekunden.
„Mit dem AutoSE tritt die Routinemessung in eine neue Ära ein.“
NEUER erweiterter NIR-Spektralbereich!
Emission analysis type end-point monitor intended for end-point detection or plasma condition control in the plasma-based semiconductor thin-film process.
Die ultimative Lösung für alle Herausforderungen der Dünnschichtmessung