Plasma Verarbeiten Monitor
Für Herstellungsverfahren , bei denen Plasma verwendet wird , bietet HORIBA die in - situ Echtzeit überwacht . Wir haben zwei geeignete Produkte für den Plasmaprozess . Die Optische Emissionsspektroskopie Etching End -Punkt- Monitor kann Endpunkt des Plasmaätzens erkennen. Die Echtzeit interferometrische Process Monitor bietet eine hohe Präzision Erkennung der Filmdicke und Grabentiefe während der Ätz- und Beschichtungsverfahren.
Emission analysis type end-point monitor intended for end-point detection or plasma condition control in the plasma-based semiconductor thin-film process.
Real Time Interferometric Process Monitor provides high precision detection of film thickness and trench depth during the etching/coating process.