Semiconductor & FPD
Manufacturing Process Control

High performance auto pressure regulator with installed pressure sensor and piezo actuator valve. Digital/Analog and DeviceNet™ communications.

High precision liquid mass flow controller using the sensor with a unique cooling method. Can control from micro-liter to ultra low flow rate.

The compact vaporization system does not require carrier gas, it can be used with either a liquid or gas flow meter, allowing for easy integration for direct liquid injection.

This dissolved ozone concentration monitor is able to cover a broad measuring range from low concentrations to high concentrations.

The exhaust pressure controller maintains pressure within a chamber at any desired level. Equipped the high-resolution stepper motor and butterfly valve.

Support for multi-batu, single-bath, and dingle-wafer cleaning systems

24-hour real-time monitoring of FPM solution concentrations in semiconductor wet-etching processes

The IR-150 is designed for real time inline concentration measurement using a Non-dispersive infrared (NDIR) method

Le GD-Profiler 2™ permet l’analyse simultanée de tous les éléments y compris les gaz (azote, oxygène, chlore, hydrogène). Il est l’outil idéal pour la caractérisation des surfaces, des couches minces, des dépôts et le suivi de productions.

Capable de mesurer jusqu’à 60 éléments (y compris les gaz), équipé d’un polychromateur et d’un monochromateur de 1 m de focale offrant une résolution optique permettant de résoudre les problèmes analytiques même dans les matrices les plus complexes, le GD-Profiler HR est utilisé dans l’industrie automobile, dans des centres de recherche ou des sites de production industrielle.