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24-hour real-time monitoring of FPM solution concentrations in semiconductor wet-etching processes

High throughput compact rugged spectrograph, suitable for dedicated Raman analysis and portable applications. Available rack mounted for industrial settings.

24-hour real-time monitoring of HF/HNO3 solution concentrations in semiconductor wet-etching processes

Ideal for hydrofluoric acid monitoring in semiconductor manufacturing

• Mesure efficace de la brillance
• Flexibilité d’utilisation grâce au capteur de mesure mobile
• Angle de mesure sélectionnable entre 20° et 60°
• Echelle de mesure : 0-100
• Prix très compétitif

 

 

• Pour mesure de surfaces hautement réfléchissantes (métaux polis)
• Possibilité de choisir entre deux échelles de mesure
• Flexibilité des mesures grâce au capteur mobile
• Angle de mesure à 60°
• Deux échelles de mesure au choix : 0-100 et 0-1000

 

The LA-930 uses Mie Scattering (laser diffraction) to measure particle size of suspensions or dry powders. The speed and ease-of-use of this technique makes it the most popular for many applications.

Le granulomètre LB-550 utilise la technique de diffusion dynamique de la lumière et permet de mesurer des solutions concentrées, jusqu’à 40% en poids, sur une large gamme de 1nm à 6 microns.

High-speed response and compact profile of the CS-131, SC-1 (standard clean) Solution Concentration Monitor makes it the ideal choice for single wafer and batch type cleaning devices.

High-speed response and compact profile make the SC-2 Solution Concentration Monitor the ideal choice for wafer and batch-type cleaning devices