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- Pour mesure de surfaces hautement réfléchissantes (métaux polis)
- Possibilité de choisir entre deux échelles de mesure
- Flexibilité des mesures grâce au capteur mobile
- Angle de mesure à 60°
- Deux échelles de mesure au choix : 0-100 et 0-1000
The LA-930 uses Mie Scattering (laser diffraction) to measure particle size of suspensions or dry powders. The speed and ease-of-use of this technique makes it the most popular for many applications.
Le granulomètre LB-550 utilise la technique de diffusion dynamique de la lumière et permet de mesurer des solutions concentrées, jusqu’à 40% en poids, sur une large gamme de 1nm à 6 microns.
High-speed response and compact profile of the CS-131, SC-1 (standard clean) Solution Concentration Monitor makes it the ideal choice for single wafer and batch type cleaning devices.
High-speed response and compact profile make the SC-2 Solution Concentration Monitor the ideal choice for wafer and batch-type cleaning devices
High-speed response and compact profile make the SPM Solution Concentration Monitor the ideal choice for water and batch type cleaning devices
TMAH/H2O2 Monitor, CS-139E - High-speed response and compact chemical solution concentration monitor
High-speed response and compact profile make the TMAH/H2O2 Solution Concentration Monitor the ideal choice for wafer and batch type cleaning devices
Ellipsomètre spectroscopique en ligne pour les systèmes roll to roll
Single point analysis and automated hyperspectral imaging.
Dual vacuum modes.
Spot sizes from 1.2 mm to 10 µm.
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