2003年6月30日 - 最先端の半導体プロセスへ新たなソリューションを提供

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2003年6月30日 - 最先端の半導体プロセスへ新たなソリューションを提供し、世界一の精密流体計測・制御メーカーを目指します

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2003年6月19日 - 画期的なセンサ構造の開発に成功し、世界最小クラスのサイズ(従来比1/20)と低価格(約1/2)を実現しました。歩留まりと装置稼働率を大幅に向上させる為のツールとしての普及を狙います。株式会社エステック(社長:堀場 厚、本社:京都市南区上鳥羽鉾立町11-5)は、300mmウェハプロセス(最先端の半導体プロセス)に対応した世界最小クラスの残留ガス分析計を2003年7月より全世界同時に発売します。

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2003年4月22日 - −本件は(株)エステックの発表によるもの−株式会社エステック(社長:堀場 厚、本社:京都市南区上鳥羽鉾立町11-5)は、このほどフェラン サイエンティフィック社(FERRAN SCIENTIFIC...

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2003年4月22日 - グローバル展開で流体解析分野に参入〜半導体・液晶分野へのソリューションを強化 株式会社エステック(社長:堀場 厚、本社:京都市南区上鳥羽鉾立町11-5)は、このほどフェラン サイエンティフィック社(FERRAN SCIENTIFIC...

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