モノクロメータ(分光器)/検出器
半導体プラズマプロセス用分光器
半導体製造プロセスでは、成膜やエッチングをはじめとし、多種多様な製造工程でプラズマ技術が利用されています。
HORIBAは、研究開発から生産ラインにおけるプロセスの終点検知やコンディション管理、プラズマ診断など、幅広い計測ソリューションを提供し、生産性向上や品質向上に貢献しています。
測定波長範囲 200 - 1000 nmの広範囲で超高感度を実現。プラズマ発光分光に最適です。 | |
測定波長範囲 115 - 320 nmのVUV領域の計測、小型で低ノイズ・高感度を実現しました。 | |
最大32チャンネルのバンドルファイバーとイメージング検出器により、プラズマ分布計測を実現しました。 | |
最小0.025 nmの波長分解能を実現、自由度が高く紫外・可視・近赤外領域の計測に最適です。 | |
各種通信仕様(EtherCAT, Ethernet, USB)を選択可能な小型分光器です。 | |
最小のサンプリング周期1.4 msecを実現、パルスプラズマプロセス等の計測に最適です。 | |
高度な解析ソフトウエアによる精密なエンドポイント判定を実現。3モデルから選択可能です。 |
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